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拓荆科技内外因作用净利猛增超4倍   推3.5折股权激励惠及76%员工

2023-02-28 07:19:00 来源:长江商报

长江商报消息 ●长江商报记者 沈右荣

半导体设备供应商拓荆科技(688072.SH)加速成长。

2月26日晚间,拓荆科技发布2022年度业绩快报,公司实现营业收入超17亿元,同比增加近10亿元。归属于上市公司股东的净利润(以下简称“净利”)为3.69亿元,同比增逾4倍。

2018年,公司营业收入仅为0.71亿元,2018年至2020年,公司连续三年亏损。2021年开始,营业收入和净利润均大幅增长。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,拥有中芯国际、长江存储等知名企业客户。公司称,其与行业国际寡头直接竞争。

2022年,拓荆科技实施股权激励计划,520名员工参与,超过公司76%员工。这些员工3.5折买股票,但对应业绩考核要求不低,未来几年,公司净利润仍然需要保持倍增才能解锁。

二级市场上,上市以来,拓荆科技的股价累计上涨了约264.50%。

营收净利双双倍增

行业景气度高,拓荆科技经营业绩大幅增长。

根据业绩快报,2022年度,拓荆科技实现营业收入17.06亿元,较上年同期增加约9.48亿元,同比增长幅度为125.02%。公司实现的净利为3.69亿元,较上年同期增加约3亿元,同比增长438.09%。扣除非经常性损益的净利润(以下简称“扣非净利”)为1.78亿元,上年同期为亏损,成功实现扭亏为盈。

去年三季报显示,公司实现营业收入9.92亿元、净利2.37亿元、扣非净利1.12亿元,同比分别增长165.19%、309.73%、584.88%,均为倍增。

对比发现,四季度,公司实现的营业收入、净利、扣非净利分别为7.14亿元、1.32亿元、0.66亿元,均较上年同期大幅增长。

针对2022年较为亮丽的经营业绩,拓荆科技解释称,受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加,公司继续加大产品研发投入,产品结构不断优化,产品竞争力持续增强,并进一步拓展客户群体,销售订单大幅增加,营业收入维持高增长趋势。与此同时,公司期间费用率相对有所下降,规模效应驱动公司盈利水平提高。

这是拓荆科技取得的史上最好经营业绩。

拓荆科技的前身是沈阳拓荆科技有限公司,成立于2010年4月28日,2021年1月,公司完成股改。2022年4月20日,公司成功闯关IPO登陆上交所科创板。

单从经营业绩方面看,拓荆科技的增长较为迅猛。公开数据显示,2018年至2021年,公司实现的营业收入分别为0.71亿元、2.51亿元、4.36亿元、7.58亿元,2019年至2021年同比增长255.66%、73.38%、73.99%。前述同期,公司实现的净利分别为-1.03亿元、-0.19亿元、-0.11亿元、0.68亿元,2018年至2020年,亏损金额逐年减少,2021年实现扭亏为盈。扣非净利方面,2018年至2021年持续亏损,亏损金额分别为1.50亿元、0.62亿元、0.57亿元、0.82亿元。

2021年的扣非净利亏损扩大,主要是研发费用增加,当年的研发费用为2.88亿元,同比增长134.15%,增速高于当期营业收入增速。

对比发现,2022年的营业收入较2020年增长了约3倍。2022年,上市第一年,公司净利大幅增长、扣非净利正式扭亏为盈。

综合毛利率方面,2021年之前,在31%至34%之间,2021年上升至44.01%。2022年前三季度为48.32%,同比上升2.54个百分点。

半导体设备领域也是技术密集型行业,近几年,拓荆科技的研发投入持续增长。2019年至2021年,其研发投入分别为0.74亿元、1.23亿元、2.88亿元,2022年前三季度为2.21亿元,同比增长70%。

细分领域唯一产业化设备厂商

拓荆科技抓住了行业发展机遇,推动业绩高速增长。公司自我加压,力求未来继续保持业绩高速增长。

2022年,拓荆科技实现了限制性股权激励计划,涉及517名员工,约占公司 2022 年 6 月 30日全部职工人数的 76.37%。517名激励对象中,包括三名核心技术人员。517名员工将获授公司280 万股限制性股票,约占公司总股本的2.21%。

此外,公司还实施了股票增值权激励计划,激励对象为董事长、总经理以及一名董事,三人均为公司核心技术人员,授予40万份股票增值权。

上述两份计划,授予价格相同,均为105元/股,为激励计划草案公布前 1 个交易日交易均价的 34.83%,为激励计划草案公布前 20 个交易日交易均价的35.12%。因此,本次股权激励,相当于公司520名员工3.5折买股票。

从激励的员工数量看,接近80%员工,具有普惠性。

本次股权激励,设定的业绩考核要求并不低。考核年度为 2022—2025 四个会计年度,以公司 2021 年营业收入值及 2021 年净利润值(剔除摊销的股份支付费用)为业绩基数,2022年至2025年,营业收入增长率为200%、300%、400%、500%。净利润增长率为270%、490%、700%、900%。

2021年,公司的营业收入、净利润分别为7.58亿元、0.68亿元,如果上述业绩达标,2025年,公司实现的营业收入、净利润分别为45.48亿元、6.80亿元。

2022年,拓荆科技已经超额完成了目标业绩。未来几年的目标业绩能否顺利达到,值得关注。

目前,全球半导体设备市场主要由国外厂商主导。近年来,中国企业加大投入力度,国产半导体设备实现了从无到有、从弱到强的质的飞跃,使中国半导体产业生态和制造体系得以不断完善。但中国半导体设备市场仍严重依赖进口,因此,能够实现进口替代的国内半导体设备厂商市场空间较大,并迎来巨大的成长机遇。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务,主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线,打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。

拓荆科技称,公司目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和 SACVD 设备厂商,也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商。

拓荆科技表示,公司专注于半导体薄膜沉积设备的研发,形成了一系列具有自主知识产权的核心技术,并达到国际先进水平。公司核心技术广泛应用于主营业务产品中,解决了半导体制造中纳米级厚度薄膜均匀一致性、薄膜表面颗粒数量少、快速成膜、设备产能稳定高速等关键难题,在保证实现薄膜工艺性能的同时,不仅提升客户产线的产能,还可减少客户产线的生产成本。

责编:ZB

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